精曜科技为客户的成功量产,提供各产业的设备如下
■ 半导体厂商生产三维(3D-IC)集成电路:环型等离子体加强化学气相沉积设备(Cluster PECVD)
■ 晶片型太阳电池产业:等离子体加强化学气相沉积(PECVD)与反应式等离子体沉积(RPD)设备,厂商量产>22%效率的N型异质结(HJT)电池
■ CIGS薄膜型太阳电池产业:LPCVD与PVD设备,厂商量产CIGS组件效率>16%

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Designer and Manufacturer of Cutting Edge Capital Equipment
  精曜科技 Archers Systems

 

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ALC-200 PECVD 等离子体加强化学气相沉积镀膜设备

 规格:
 非晶/微晶矽薄膜量产系统
 设备尺寸:17.8m 宽 x 7.3m 长 x 2.4m 高
 
 特点:
 专利的线性群集式量产平台
 稳定且无交叉污染的镀膜腔体设计,确保晶片表面的钝化品质
 独立式镀膜腔设计,方便维护与降低停机时间,产能运用率最佳
 稳定低等离子体操作功率(<10mW/cm2)对异质结电池矽晶片表面无损伤

 

RPD-35 反应式等离子体沉积镀膜设备

 规格:
 透明金属导电膜量产系统
 设备尺寸:4.80m 宽 x 15.42m 长 x 2.71m 高(配备两套高密度等离子体产生器)

 特点:
 低温制作高载子迁移率与低自由载子吸收金属膜层:高长波长透光率
 低动能镀膜:高质量、低粒子轰击损伤、均一度佳
 在线式连续高速率镀膜系统:高产量与高配套特性
 真空式自动换靶与遮板功能:保证长时间的运行且维修时间短
 多重选项配备:提供客户完成具有特色的镀膜作业
 最佳范例:与磁控溅镀比较,采用RPD能提升超过1%异质结太阳能电池效率
 超过10年的异质结太阳电池量产之认可
 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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